Camouflage. Extra Care Lotion - COVERMARK

Benefícios de loção para cuidados extras de Covermark

Loção extra para cuidados Covermark É um tônico regulatório para diferentes tipos de pele. Prepare a pele, deixando -a perfeita para aplicar a maquiagem mais tarde. Formulação projetada para obter maquiagem mais durável para eventos: casamentos, desfiles, cinema, teatro, etc. Recomendado por dermatologistas para tonificar skles com imperfeições como: angmos, vitínigos, lentigos solares, senis ou gravidez, máquinas, manchas de vinho, neving, cuperiose, rosácea, lema, acne grave, soriase, leukodermia, etc. Formula. Para pilhas secas ou normais e para a pele gordurosa:

• Cuidados com loção extra nº1: e Stá projetado para acalmar e hidratar a pele seca e sensível. Ideal para a pele normal e a pele sensível a seco. Loção facial suave e hidratante. Restaure os componentes do fator de hidratação natural (NMF) na pele. Minimize os poros deixando a pele fresca e lisa, preparada para maquiagem. Incorpora anti -agentes. Ação anti-irritória (rhamnosoft polissacarídeos e extrato de ginkgo biloba). Hidratação profunda graças à sua formulação com diferentes extratos e vitaminas. Com ação de regeneração e anti -envelhecimento (extrato de ginkgo biloba e extrato de gingseng) e ação calmante (Antoin)
• Cuidado com loção extra nº2. Ele foi projetado para normalizar as funções de gordura. Ação regulatória da produção de sebo, dá clareza e com excelente ação de tensionamento dos poros, deixando assim uma pele radiante, preparada para maquiagem, evitando os brilhos indesejados. Ideal para a pele gorda. Loção facial com ativos regulatórios de produção de gordura. Restaure os componentes do fator de hidratação natural (NMF) na pele. Feche os poros que deixam a pele fresca e suave, preparada para maquiagem. Minimiza os poros e regula o excesso de gordura (extratos de pimpinela, gengibre e canela). Ação anti -séptica e anti -inflamatória (extratos de uva e molho branco). Ação hidratante profunda. Ação antioxidante (extrato de uva). Ação calmante (alantoine).

Para que serve?

• Extratos de Pimpinela, gengibre e canela: minimiza os poros e regula o excesso de gordura
• Extratos de uva e molho brancos: ação anti -séptica e anti -inflamatória
• Vitaminas B3+B5, Lactato de Sódio e Sódio PCA, componente do fator de hidratação natural NMF: Ação hidratante profunda
• Extrato de uva: ação antioxidante
• Alantoín

Quem pode usá -lo?

A loção para cuidados extras nº1 é especialmente indicada para a pele normal e seca ou sensível.

A loção para cuidados extras nº2 é um tônico formulado para a pele gordurosa.

Os dois produtos são compatíveis com peles sensíveis ou com problemas dermatológicos e imperfeições, como: lentigórias solares, senis ou gravidez, máquinas, manchas de optorte, angmos, nevings, cuperiose, rosácea, lêmulo, acne grave, soríase, vitiliana, leukodermia, etc.

Como deve ser aplicado?

Após a remoção ou limpeza com o Removedor de creme restante, aplicar cuidados de loção extra são a ajuda de um disco de algodão ou com as mãos fazendo uma pequena massagem em todo o rosto.

Em peles de pele, é perfeito para usar com a base ou face magia de maquiagem de Covermark.

Formato e tamanho

Garrafa 200 ml.

Loção de cuidado extra 1 ingredientes 1

Aqua, propileno glicol, goma de biossacarídeo-2, pantenol, extrato de biloba de ginkgo, butileno glicol, extrato de raiz do Panax ginseng, polissorbato 20, glicerina, uréia de sódio, lactato de sódio, frutae, glicina, niacinamida, uréia, uréia, lactato de sódio, frutae, glicina, niacinamida, uréia, uréia, lactato de sódio, fruta. Lparaben, ethilparabeno, propilparaben, butilparaben, imidazolidinil uréia, coco-peg-7 gliceril, alantoína, parfum.

Ingredientes de Loção de Cuidados Extras 2

Aqua, Propylene Glycol, Citrus Grandis (Grapefruit) Fruit Extract, Butylene Glycol, Salix Alba (Willow) Leaf Extract, Sanguisorb Ca, sodium Lactate, fructose, glycine, niacinamide, urea, inositol, phenoxyethanol, Methylparaben, ethylparaben, propylparaben, butylparaben, IMIDAZOLIDINIL URREA, PEG-7 GLYCERY COCATE, ALLATIN, PARFUM.